串联 QLED 腔长优化
作者: Yuhan LI
Very Stable and Efficient Tandem Quantum-Dot Light-Emitting Diodes Enabled by IZO-Based Interconnecting Layers 作者: Cuixia Yuan、Zinan Chen、Fengshou Tian、Shuming Chen 期刊: Nano Letters 24(24), 7541–7547(2024) · 对照目标: Figure 2c-d https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.4c02021
本案例复现 Yuan 等 Figure 2c-d 的两张腔体厚度图。对单发光层 QLED 和双发射体串联 QLED,使用光谱加权 Mode 扫描 ZnMgO 与顶部 IZO 厚度。计算峰值分别为 35.80% 与 31.87%,与论文数值锚点相差 0.76 个百分点和低于 0.01 个百分点。

Yuan Figure 2a-d——单发光层与串联 QLED 膜系及其腔体厚度图。 (来源: Yuan 等,Nano Letters 24, 7541–7547(2024),Figure 2a-d)
Figure 2a-b 给出两套腔体,Figure 2c 的单层峰值为 36.56%,Figure 2d 的串联峰值为 31.87%,高值区同时移动到顶部单元对应的腔长范围。
顶发射 QLED 在半透明 IZO 电极与 Ag 反射镜之间形成微腔。改变电子传输层或顶部电极厚度都会改变光学相位、场分布以及生成光进入空气的比例。串联器件再增加第二个发光单元,因此腔体需要在 QD 发射波段内同时支持两个不同的源位置。
论文同时研究了光学优化和器件稳定性。本案例只复现光学 EQE/γ 图,不计算驱动电压、连接层电荷生成或寿命。
论文参数与 TMM 模型映射
Section titled “论文参数与 TMM 模型映射”单发光层器件(出光侧 → Ag)
Section titled “单发光层器件(出光侧 → Ag)”| 膜层 | 厚度 |
|---|---|
| IZO 顶电极 | 标称 110 nm;扫描 40–320 nm |
| MoO₃ | 10 nm |
| TCTA | 50 nm |
| 红光 QD EML | 20 nm |
| ZnMgO | 标称 70 nm;扫描 5–360 nm |
| IZO bottom | 5 nm |
| Ag 反射镜 | 100 nm |
串联器件(出光侧 → Ag)
Section titled “串联器件(出光侧 → Ag)”| 膜层 | 厚度 |
|---|---|
| IZO 顶电极 | 标称 100 nm;扫描 20–180 nm |
| 顶部 MoO₃ / TCTA / 红光 QD EML | 10 / 50 / 20 nm |
| 顶部 ZnMgO | 标称 120 nm;扫描 40–180 nm |
| IZO 连接层 | 2 nm |
| 底部 MoO₃ / TCTA / 红光 QD EML | 10 / 50 / 20 nm |
| 底部 ZnMgO | 70 nm |
| IZO bottom | 5 nm |
| Ag 反射镜 | 100 nm |
两个红光 QD 层使用相同的数字化 PL 光谱。本案例把数字化 PL 纵轴解释为光子概率谱;原图未明确给出光谱单位,若它实际表示辐射功率谱,则需先按光子能量换算,光谱加权结果会随之改变。
论文按下式合并两个发光单元的贡献:
$$ \frac{EQE_{\mathrm{tandem}}}{\gamma_{\mathrm{tandem}}} = \frac{1}{2}\left( \frac{EQE_{b}}{\gamma_{b}}+ \frac{EQE_{t}}{\gamma_{t}} \right). $$
其中,$EQE_{\mathrm{tandem}}$、$EQE_b$ 和 $EQE_t$ 分别表示串联器件、底部发光单元和顶部发光单元的外量子效率;$\gamma_{\mathrm{tandem}}$、$\gamma_b$ 和 $\gamma_t$ 分别为对应的电效率或电荷平衡因子;下标 $b$ 与 $t$ 分别表示底部和顶部单元。系数 $1/2$ 来自论文采用的假设:两个单元具有相同电荷平衡,且 $\gamma_b=\gamma_t=\gamma_{\mathrm{tandem}}/2$。双发射体等权设置直接实现了该平均。
在本案例的 q₀ = 0.9 设置和论文除去 $\gamma$ 的比较口径下,Mode 的 Top Outcoupling 对应“有效辐射产率 × 顶部出光份额”,用作 $EQE/\gamma$ 的光学映射。它不是纯 LEE,也不包含器件的实际电荷平衡,因此不能当作实测 EQE。
复现目标与验收准则
Section titled “复现目标与验收准则”- 单发光层热图的最强区域应位于 ZnMgO
70–80 nm、顶部 IZO 约110 nm。 - 单发光层峰值与论文
36.56%的锚点相差不超过一个百分点。 - 串联热图的最强区域应位于顶部 ZnMgO
110–120 nm、顶部 IZO100–110 nm。 - 串联峰值与论文约
31.87%的锚点相差不超过一个百分点。 - 全部网格点必须无求解错误完成;缺失单元格会使最优点对照失去明确性。
Dreapex TMM 建模路径
Section titled “Dreapex TMM 建模路径”导入对应模型。100 nm Ag 反射镜在光学上已足够厚,因此 Emission 计算中省略其后的玻璃。
启用 Mode 并选择光谱加权平均。具体发射体、波长和扫描设置见下表。
单发光层模型
Section titled “单发光层模型”
两个扫描层位于 QD 发射层两侧,共同调节腔体相位。

串联模型的两层 QD 复用这一发射体设置,只增加第二个源位置。

Weighted Average 把 QD PL 权重纳入每个厚度组合的 Mode 结果。

这组扫描生成 Figure 2c 对应的单发光层腔体图。

两个 QD 源分处 IZO 连接层两侧,处于不同的腔体位置。

底部单元使用相同设置,因此不重复展示。

这组扫描生成 Figure 2d 对应的串联腔体图。
| 配置项 | 单发光层模型 | 串联模型 |
|---|---|---|
| 启用的 EML | 单个红光 QD EML | 两个红光 QD EML,各自权重 1 |
| 发射体 | 数字化 PL;Probability;Isotropic;相对位置 0.5 的 Delta;量子效率 0.9 |
与单层模型相同 |
| Mode | Weighted Average;590–670 nm;步长 5 nm;Top Outcoupling |
与单层模型相同 |
| 横轴 | ZnMgO:5–360 nm,步长 5 nm |
顶部 ZnMgO:40–180 nm,步长 4 nm |
| 纵轴 | 顶部 IZO:40–320 nm,步长 5 nm |
顶部 IZO:20–180 nm,步长 2 nm |
| 网格 | 72 × 57 = 4,104 个组合 |
36 × 81 = 2,916 个组合 |
仿真结果与 Figure 2 对照
Section titled “仿真结果与 Figure 2 对照”Figure 2c-d 使用相同的色彩图逻辑,可直接比较单层与串联器件的峰值和高值区域。

Yuan Figure 2a-d——单发光层与串联 QLED 膜系及其腔体厚度图。 (来源: Yuan 等,Nano Letters 24, 7541–7547(2024),Figure 2a-d)
Figure 2c:单发光层腔体图
Section titled “Figure 2c:单发光层腔体图”
高值区随两个厚度呈弯曲带状分布,说明 ZnMgO 与顶部 IZO 共同补偿腔体相位。完整 4,104 点计算无错误完成,最大值为 35.80%,对应 ZnMgO 75 nm、顶部 IZO 110 nm。论文最强区域位于相同的标称腔体附近,峰值为 36.56%,两者相差 0.76 个百分点。
Figure 2d:串联腔体图
Section titled “Figure 2d:串联腔体图”
本次复现使用顶部 ZnMgO 4 nm、顶部 IZO 2 nm 步长,使完整结果可在网页图表中呈现。主要高值脊位于顶部 ZnMgO 112–120 nm、顶部 IZO 100–106 nm 附近,并沿两条厚度轴倾斜延伸,说明两种厚度可共同补偿腔体相位。完整 2,916 点计算无错误完成,最大值为 31.87%,对应顶部 ZnMgO 112 nm、顶部 IZO 106 nm;论文标称的 120/100 nm 设计点为 31.72%,仅比最大值低 0.14 个百分点。
| 数量 | 论文 | 仿真 |
|---|---|---|
| 单层器件峰值 | 36.56% |
35.80% |
| 单层最优点 | 约 70/110 nm |
75/110 nm |
| 串联峰值 | 约 31.87% |
31.87% |
| 串联最优点 | 约 120/100 nm |
112/106 nm |
单层结果较好复现了峰值与设计区域;串联峰值在论文给出的精度下几乎一致,其最优点相对论文标称设计的顶部 ZnMgO 低 8 nm,顶部 IZO 高 6 nm。
- 补充信息只给出 RQD 和 TCTA 的折射率,没有消光系数,因此其
k明确设为零。 - 按补充信息中的近似,MoO₃ 复用 TCTA 光学常数,而未使用独立的 MoO₃ 数据。
- PL 与光学常数曲线均来自数字化,采样和插值会使窄腔体最优点移动数纳米。
- 每个 EML 使用中央各向同性 Delta 发射体;分布式复合区或不相等的单元权重会改变串联热图。
- 平面模型不包含电极粗糙度与散射,预测的是光学
EQE/γ图,不是器件实测 EQE 或寿命。
- 在两个峰值附近运行
1 nm局部扫描,估计连续最优点。 - 使用实测复数色散替换以 TCTA 代替 MoO₃ 的近似。
- 扫描两个串联发射体的相对权重,表示电学失衡。
- 增加发射体位置变量,量化两个复合区的容差。
本教程只覆盖操作步骤。物理原理、每项功能的完整参数、结果的解读方式,以及算法验证,都在文档站:
- 传递矩阵法原理 — 教程背后的物理与公式
- 功能指南 — 每个界面与参数的完整说明
- 结果分析 — 各类结果的读法与判断依据
- 打开 Dreapex TMM — 在浏览器中直接建模计算